Informaçao sobre o Autor
Пивоваренок, С. А.
| Edição | Seção | Título | Arquivo |
| Volume 52, Nº 1 (2023) | ДИАГНОСТИКА | Controlling Silicon Etching Parameters in RF CHF3 Plasma by Optical Emission Spectroscopy | |
| Volume 52, Nº 1 (2023) | ДИАГНОСТИКА | Электрофизические характеристики и эмиссионные спектры плазмы тетрафторметана |