Editorial Policies
Aims and Scope
Journal is covers technological, physical and circuit engineering problems in micro- and nanoelectronics. Special emphasis on new trends in lithography (optical, x-ray, electron, ion), etching, impurity implantation, deposition and planarization in submicron and nanometer scale.
Sections
ДИАГНОСТИКА
КВАНТОВЫЕ ТЕХНОЛОГИИ
МОДЕЛИРОВАНИЕ
ТЕХНОЛОГИИ
ИСКУССТВЕННЫЙ ИНТЕЛЛЕКТ
МОДЕЛИРОВАНИЕ ПРИБОРОВ
МОДЕЛИРОВАНИЕ ТЕХНОЛОГИЧЕСКИХ ПРОЦЕССОВ
ЛИТОГРАФИЯ
ПРИБОРЫ
ТЕХНОЛОГИЯ
МЭМС–УСТРОЙСТВА
УСТРОЙСТВА
МОДЕЛИРОВАНИЕ ТЕХНОЛОГИЧЕСКИХ ПРОЦЕССОВ
НАДЕЖНОСТЬ
ПЛАЗМЕННЫЕ ТЕХНОЛОГИИ
ПАМЯТЬ
СЕНСОРЫ
МЭМС-УСТРОЙСТВА
NEUROMORPHIC SYSTEMS
Publication Frequency
Periodicity: 6 issues a year.
Indexing
Indexing:
- RSCI
- translated version in Scopus
- VAK