PROBE AND SPECTRAL DIAGNOSTICS OF PLASMA GAS ENVIRONMENT: BCl3-Cl2

D. B. Murin; Мурин Д. Б.; I. A. Chesnokov; Чесноков И. А.; I. A. Gogulev; Гогулев И. А.; A. E. Grishkov; Гришков А. Э.

doi:10.31857/S0544126923600161

PROBE AND SPECTRAL DIAGNOSTICS OF PLASMA GAS ENVIRONMENT: BCl3-Cl2

Authors: Murin D.B.¹, Chesnokov I.A.¹, Gogulev I.A.¹, Grishkov A.E.¹
Affiliations:
1. Federal State Budgetary Educational Institution of Higher Education, Ivanovo State University of Chemical Technology
Issue: Vol 52, No 6 (2023)
Pages: 443-448
Section: ДИАГНОСТИКА
URL: https://rjonco.com/0544-1269/article/view/655247
DOI: https://doi.org/10.31857/S0544126923600161
EDN: https://elibrary.ru/QSSBTX
ID: 655247

Cite item

Full Text

Open Access
Restricted Access

Access granted
Restricted Access

Subscription Access

Abstract
About the authors
References
Supplementary files
Statistics

Abstract

Probe and spectral measurements of the plasma of the gaseous medium BCl3-Cl2 were carried out. Data were obtained on the influence of the initial composition of the gaseous medium on the electric field strength, gas temperature, particle concentration, reduced electric field strength under conditions of a direct current glow discharge. The emission spectra of the plasma of the gaseous medium BCl3-Cl2 were analyzed, the main emitting components were identified, and the relationships between radiation intensities and particle concentrations were established.

Keywords

boron trichloride, chlorine, gaseous medium, reduced electric field strength, gas temperature, specific power, radiation intensity, particle concentration.

References

Roosmalen A.J., Baggerman J.A.G., Brader S.J.H. Dry etching for VLSI. N. Y.: Plenum Press. 1991. 457 p.
Rooth J.R. Industrial plasma engineering. Philadelphia: IOP Publishing LTD. 1995. V. 1. 545 p.
Ефремов А.М., Мурин Д.Б. Параметры плазмы и механизмы травления металлов и полупроводников в смесях HCl + Ar, H2, O2 и Cl2 // Микроэлектроника. 2015. Т. 44. № 5. С. 338–345.
Иванов Ю.А., Лебедев Ю.А., Полак Л.С. Методы контактной диагностики в неравновесной плазмохимии. М.: Наука, 1981. 142 с.
Рохлин Г.Н. Разрядные источники света. Изд. 2-е; перераб. и доп. М.: Энергатомиздат, 1991. С. 720.
Мурин Д.Б., Дунаев А.В. Электрофизические параметры и спектры излучения плазмы трихлорида бора // Микроэлектроника. 2018. Т. 47. № 2. С. 106–114.
Pearse R.W.B., Gaydon A.G. The identification of molecular spectra. Fourth edition. New York: John Wiley & Sons, inc. 1976. P. 407.
Стриганов А.Р., Свентицкий Н.С. Таблицы спектральных линий нейтральных и ионизированных атомов. М.: Атомиздат., 1966. С. 899.
Дунаев А.В., Мурин Д.Б. Электрофизические параметры и концентрации активных частиц в плазме смесей HCl c инертными и молекулярными газами // Микроэлектроника. 2014. Т. 43. № 5. С. 363.
Ефремов А.М., Мурин Д.Б. Электрофизические параметры плазмы бинарных смесей HCl + Ar, He, H2, O2 и Cl2 // Известия высших учебных заведений. Серия: Химия и химическая технология. 2015. Т. 58. № 4. С. 14–18.
Ефремов А.М., Пивоваренок С.А., Светцов В.И. Параметры плазмы и механизмы травления металлов и полупроводников в хлороводороде // Микроэлектроника. 2009. Т. 38. № 3. С. 163–175.
Ситанов Д.В., Ефремов А.М., Светцов В.И. Параметры плазмы и кинетика образования и гибели а-тивных частиц в разряде в хлоре // ТВТ. 2008. Т. 46. № 1. С. 15–22.